【PC日报】6月30日消息,据韩媒The Elec报道,三星电子的存储业务高管最近参加了电子工程师协会2023年夏季会议,就三星的V-NAND技术发展进行了展望。会上,三星高管表示,他们预计到2030年,V-NAND技术的层数可以超过1000层。
自2013年推出24层V-NAND以来,三星在过去的十年间不断发展,目前已经达到了200多层。三星高管强调,V-NAND的存在延续了NAND的历史,并成为韩国国家创造技术和生态系统的少数成功案例之一。每个V-NAND芯片最初的容量为128Gb(16GB),通过3D堆叠技术,最多可以将24层芯片堆叠,从而实现总容量为384GB的存储。
据PC日报了解,三星高管表示,要推动NAND技术达到1000层以上的挑战,就像建造摩天大楼一样,需要解决许多稳定性问题,例如坍塌、弯曲和断裂等。此外,他们还需要克服连接孔加工工艺、最小化电池干扰、缩短层高以及扩大每层存储容量等一系列挑战。